Dual-frequency CH₂F₂/H₂/Ar capacitively coupled plasma를 이용한 실리콘질화물과 ArF PR의 무한 선택비 식각 공정
박창기(Chang Ki Park), 이춘희(Chun Hee Lee), 김희대(Hui Tae Kim), 이내응(Nae-Eung Lee)
Published in Biuletyn Uniejowski (01.06.2006)
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